【精装】超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一光刻技术概述匀胶显影机及其应用投影式光刻机的工作原理掩模板及其管理

电子与通信 微电子学、集成电路(IC)

• ISBN：9787030482686
• 字数：780000
• 开本：16开
• 版次：1
• 页数：576
• 出版社：科学出版社
• 出版时间：2020-03-01
• 作者：